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レーザー、放電励起EUV光源における原子過程および放電初期過程の考察
佐々木明,西原功修,砂原淳,*西川亘,小池文博,古河裕之
第70回応用物理学会学術講演会
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The atomic model of the Sn plasmas for the EUV sources International conference
Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, Katsunobu Nishihara, Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike, Hajime Tanuma
14th Internationl Conference on the Physics of Highly Charged Ions
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EUV~軟X線領域のプラズマ 光源のモデリング
佐々木 明、1西原 功修、2砂原 淳、 3西川 亘、4小池 文博、2古河 裕之
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Advanced laser-produced EUV light source for HVM with conversion efficiency of 5-6% and B-field mitigation of ions (Invited Paper) International conference
Katsunobu Nishihara, 間に8名, Takeshi Nishikawa*, 後ろに7名
EUV Source II, SPIE Advance Lithography
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EUV Source Desgin Flexility for Lithography
*Nishikawa Takeshi, Sunahara Atsushi, Sasaki Akira, Nishihara Katsunobu
Fifth International Conference on Inertial Fusion Science and Applications
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Snの輻射放出・吸収係数に対する発光線波長の精度の影響
佐々木明、西原功修、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇
第５４回応用物理学関係連合講演会
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レーザー生成錫プラズマからの極端紫外光発生の最適化
砂原淳、西原功修、佐々木明、*西川亘、藤岡慎介、青田達也、山浦道照、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間圀興
レーザー学会学術講演会第２７回年次大会
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Detailed Modeling of Atomic Process and Radiative Transfer of the EUV Source Plasmas
Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, Katsunobu Nishihara, *Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma
EUV Source Workshop
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Laser and Target Optimization for the Highest Conversion to 13.5 nm EUV Light with Laser Produced, Minimum-Mass Tin Plasma
Hiroaki Nishimura他18名11番目
5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium
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Radiation Hydrodynamic Simulation for LPP EUV Sources
Atsushi Sunahara他11名4番目
5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium
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Systematics of Atomic 4d-4f Transitions of Atomic Ions in EUVL Source Plasmas and Neighboring Atomic Numbers
Fumihiro Koike, Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Atsushi Sunahara, Takeshi Nishikawa, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma
5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium
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Theoretical Guidelines of LPP-EUV Sources for HVM
Katsunobu Nishihara他21名10番目
5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium
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Modeling of the Atomic Processes in EUVL Source Plasmas
Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Atsushi Sunahara, *Takeshi Nishikawa, Fumihiro. Koike, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma
5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium
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EUV光源用Sn, Xeの詳細原子モデル
佐々木明、西原功修、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇
日本物理学科２００６年秋季大会
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レーザー生成プラズマからの極端紫外光発生の２次元シミュレーションII
砂原淳、西原功修、佐々木明、西川亘、青田達也、山浦道照、藤岡慎介、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間国興
第６７回応用物理学会学術講演会
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EUV光源の原子過程モデルの高精度化
佐々木明、西原功修、砂原淳、西川亘、香川貴司、小池文博、田沼肇
第６７回応用物理学会学術講演会
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Xe, Snプラズマの原子モデル改良の課題
佐々木明、西原功修、前原宏昭、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇
応用物理学会
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LPP EUV光源のターゲット材料としてのスズ、およびスズ化合物の理論解析
*西川亘、砂原淳、佐々木明、西原功修
応用物理学会
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レーザー生成プラズマからの極端紫外光発生の２次元放射流体シミュレーション
砂原淳、西原功修、佐々木明、*西川亘、古河裕之、前原宏昭、山浦道照、藤岡慎介、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間圀興
応用物理学会
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Analysis of the emission spectrum of Xe and Sn
A. Sasaki, K. Nishihara, F. Koike, T. Kagawa, *T. Nishikawa, A. Sunahara, H. Tanuma
SPIE microlithography 2006