研究者詳細 - 豊田　啓孝

MISC - 豊田　啓孝

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2重リング共振器構造をもつインターリーバの特性解析

ヒダヤットイイップシャリフ, 大西学, 一馬聡, 豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治

電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集 2001 ( 1 ) 156 - 156 2001年8月

C-3-5 ピルボックス型光変調器における振幅増大変調パルスの生成とスペクトル解析

一馬聡, ヒダヤットイイップシャリフ, 豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治

電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集 2001 ( 1 ) 115 - 115 2001年8月

LSIの電源系EMC設計のためのシミュレーション

高山惠介, 木下智博, 松永茂樹, 王志良, 豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治, 福本幸弘, 柴田修

電子情報通信学会技術研究報告. EMCJ, 環境電磁工学 101 ( 178 ) 73 - 78 2001年7月

記述言語：日本語出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会

ディジタル基板の電磁放射ノイズの主原因の一つに、IC/LSIの電源端子を流れる高周波電流がある。筆者らはこれまでにIC/LSIの電源端子から流れ出す高周波電流のモデルを提案してきた。電源系ノイズを抑制する手法として、LSI内部に高周波電流を供給するバイパスコンデンサや外部への高周波電流の流出を抑制するデカップリングインダクタンスを付加する方法がある。本稿では筆者らが提案したモデルを用いて電源端子電流が低減できることを示すと同時にそのメカニズムを示す。さらに、EMIのシミュレーションと測定値の比較を行い、内部デカップリングした場合のEMI抑制効果について検証する。

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Stable inversion method for a polarized-lidar：analysis and simulation

He Wei, Ryuji Koga, Kengo Iokibe, Osami Wada, Yoshitaka Toyota

J. Opt. Soc. Am. A, Opt. Image Sci. Vis. 18 ( 2 ) 392 - 398 2001年2月

ピルボックス型光変調器におけるパルス生成解析

豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治

電子情報通信学会技術研究報告. OPE, 光エレクトロニクス 100 ( 590 ) 1 - 6 2001年1月

記述言語：日本語出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会

ピルボックス型光変調器に与える変調信号の周波数を増加させていくと、入力のCW光の振幅よりも大きな振幅のパルスを生成することが判明した。変調出力のパルス振幅が入力CW光の振幅を超えるような変調であるため、我々はこれを振幅増大変調と呼んでいる。今回、ピルボックス型光変調器における振幅増大変調の原理の解明、出力振幅の理論上の最大値、並びにそれを与える変調信号の導出、そして、CW光を入力した場合の正弦波変調、三角パルス変調時の出力波形の解析を行った。その結果、無変調時の直接光と結合光の逆相関係を、変調によって結合光の位相をπ(の奇数倍)だけずらし同相にすることで、ピルボックス型変調器の出力光は、入力CW光の最大で9倍の大きさのピークをもつパルスとなることを明らかにした。

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Reduction of Q-factor of resonance in power/ground planes of multilayer PCBs by using resistive metal films

Zhi Liang Wang, Osami Wada, Yoshitaka Toyota, Ryuji Koga

Trans. Inst. Electr. Eng. Jpn. A 2001年

Depolarization Properties of Asian Dust（Kosa）Measured in 1998-2000 at Okayama, Japan

He Wei, Ryuji Koga, Kengo Iokibe, Osami Wada, Yoshitaka Toyota, Naoki Kagawa

SPIE 4153 559 - 566 2001年

Power current model of LSI and parameter identification for EMI simulation of digital PCBs

Y Fukumoto, T Matsuishi, T Kinoshita, O Wada, Y Toyota, R Koga

2001 IEEE EMC INTERNATIONAL SYMPOSIUM, VOLS 1 AND 2 1185 - 1190 2001年

記述言語：英語出版者・発行元：IEEE

A power current model of LSIs for EMI simulation of digital printed circuit boards, and a parameter identification method based on the model are presented. The model consists of equivalent internal impedance and an equivalent internal current source. The equivalent internal impedance is obtained by measuring the impedance between the power and ground terminal of an LSI by means of an impedance analyzer, and an equivalent internal source is obtained from the measured current through the power terminal under the conditions of known external impedance. Furthermore, it is shown that simulation results generated using this model have good agreement with the results of measurements made under a range of external impedances.

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多層PCB上のパスコンによる局所的デカップリング効果 : 解析的手法による高速計算

和田修己, 王志良, 豊田啓孝, 古賀隆治

電子情報通信学会技術研究報告. EMCJ, 環境電磁工学 100 ( 510 ) 85 - 90 2000年12月

記述言語：英語出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会

プリント回路基板(PCB)上のディジタル回路素子は高速スイッチングノイズを発生させ、これがグランドバウンスやEMIの原因となる。本稿ではこのノイズの低減に使用されるバイパスコンデンサ(パスコン)の効果を、多層PCBの電源・グランド面共振について解析的手法により定量評価した。電源・グランド面を多ポートのインピーダンス行列で表し、パスコンの集中定数モデルを組み合わせて、共振の励振効率を入力インピーダンスで評価した。その結果、励振源に近接したパスコンの局所的デカップリング効果は両者の間隔により決定され、1個の近接パスコンの局所的デカップリング効果が励振効率低減を支配することが定量的に示された。

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多層基板の電源･グランド層間インピｰダンス共振特性の解析 : 速度･精度の向上

王志良, 和田修己, 豊田啓孝, 古賀隆治

電気学会研究会資料. : The Papers of Technical Meeting on Electromagnetic Theory, IEE Japan. EMT, 電磁界理論研究会 2000 ( 65 ) 17 - 23 2000年10月

LSI電源端子電流モデルの簡易決定手法

福本幸弘, 松石拓也, 豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治

電子情報通信学会技術研究報告. EMCJ, 環境電磁工学 100 ( 207 ) 49 - 54 2000年7月

記述言語：日本語出版者・発行元：一般社団法人電子情報通信学会

ディジタル基板の電源系ノイズをシミュレートするためには, そのノイズ供給源であるIC/LSIの電源端子から流れ出す高周波電流のモデルが必要である.本稿では, IC/LSIの電源グラウンド間に等価内部インピーダンスと等価内部電流源を有するモデルを提案し, その内部パラメータの同定方法について述べる.このモデルの特長は, バイパスコンデンサや基板上の電源配線のインピーダンスの影響を考慮したIC/LSIの電源端子電流を表現できることにある.等価内部インピーダンスの値はインピーダンスアナライザで求めることができ, 等価内部電流源は外部インピーダンスと測定電流から導出することができる.更に, さまざまな外部インピーダンスのもとで, 本モデルを用いて計算した電源端子電流が実測値とよく一致することを示す.

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Power decoupling circuit for modeling and measurement of EMC characteristics of IC/LSI

R Koga, O Wada, Y Toyota, T Miyashita, Y Fukumoto, A Namba, Y Takahata, N Kagawa

ASIA-PACIFIC CONFERENCE ON ENVIRONMENTAL ELECTROMAGNETICS: CEEM'2000, PROCEEDINGS 444 - 448 2000年

Reducing Q-factors of Resonances in Power/Ground Planes of Multilayer PCBs by Using Resistive Metallic Layers

Zhi Liang Wang, Osami Wada, Yoshitaka Toyota, Ryuji Koga

Proceedings of the 2000 Japan-China Joint Meeting on Optical Fiber Science and Electromagnetic Theory (OFSET) 2000 2000年

Observation of Kosa with Mie Lidar at Okayama in the Spring of 2000

Ryuji Koga, Kengo Iokibe, He Wei, Osami Wada, Yoshitaka Toyota, Naoki Kagawa

The Proceedings of Asian Lidar Observation Network Conference 2000 2000年

Power Current Model of Digital IC with Internal Impedance for Power Decoupling Simulation

Osami Wada, Yasuo Takahata, Yoshitaka Toyota, Ryuji Koga, Takuya Miyashita, Yukihiro Fukumoto

4th European Symposium on Electromagnetic Compatibility Proceedings 2000年

Depolarization properties of Asian dust (KOSA) measured by LIDAR in Okayama in the spring of 1998

He Wei, Ryuji Koga, Kengo Iokibe, Osami Wada, Yoshitaka Toyota

Memoirs of the Faculty of Engineering, Okayama University 34 ( 1 ) 27 - 37 2000年

記述言語：英語出版者・発行元：Faculty of Engineering, Okayama University

In spring of 1998, Asian dust was observed with a Mie LIDAR in Okayama University, which can measure depolarization ratio. Three events of intense Asian dust were occurred in the period and medially detailed structure of atmosphere was found after examining records. Asian dust was distinguished from water droplets and the possibility to study three dimensional dynamic structure of atmosphere were demonstrated.

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ピルボックス型光変調器における振幅増大変調によるパルス生成

須賀邦博, 繁英樹, 豊田啓孝, 和田修己, 古賀隆治

1999信学総大 311 - 311 1999年

Yield Measurement of Secondary Electrons Emitted from Silicon Dioxide Film in Negative-Ion Bombardment

Toyota Yoshitaka, Tsuji Hiroshi, Gotoh Yasuhito, Ishikawa Junzo

Japanese journal of applied physics. Pt. 1, Regular papers & short notes 35 ( 9 ) 4785 - 4788 1996年9月

記述言語：英語出版者・発行元：Publication Office, Japanese Journal of Applied Physics, Faculty of Science, University of Tokyo

The yield of secondary electrons emitted from insulating materials subjected to negative-ion bombardment was studied. In general, such measurements for insulating materials are difficult because surface charging due to ion implantation makes the apparent yield unity. We used silicon dioxide (SiO2) film and a small ion current for the yield measurements. As a result, charge compensation due to the leakage current minimized the surface charging and the true yield was obtained. The experimental results showed that secondary electrons emitted due to negative-ion bombardment consist of electrons due to both kinetic emission and detachment from negative ions. In addition, it was found that the yield depends on the ion species. It was concluded that the same tendencies as those for negative-ion-implanted conductive materials are observed.

DOI： 10.1143/JJAP.35.4785

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Fundamental study on powder-scattering in positive- and negative-ion implantation into powder materials

Hiroshi Tsuji, Junzo Ishikawa, Hajime Itoh, Yoshitaka Toyota, Yasuhito Gotoh

Applied Surface Science 100-101 342 - 346 1996年

記述言語：英語出版者・発行元：Elsevier

The scattering of powder particles is caused by charging in the ion implantation of positive ions into dielectric powders without a charge compensation, this makes dose control difficult. We have studied the particle-scattering phenomenon in ion implantation into spherical powders both theoretically and experimentally. Taking into account Coulomb force, Van der Waals force and a gravity working on a sphere, the force balance equation was driven to give the threshold charging voltage above which the charged sphere begins to be scattered. In positive-argon-ion implantation into three oxide powders at an average size of 5, 115 and 425 μm, particle-scattering was observed above each ion-acceleration voltage (i.e., charging voltage) of 6.5, 1.0 and 2.7 kV, respectively. These voltages were in good agreement with the predicted threshold charging voltages. Conversely, in the negative-carbon-ion implantation, on the contrary, there was no scattering for all samples even at an ion acceleration voltage of 20 kV. The negative-ion implantation technique was found to be a non-scattering implantation method for powders.

DOI： 10.1016/0169-4332(96)00238-3

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Charging phenomenon of insulators in negative-ion implantation

Yoshitaka Toyota, Hiroshi Tsuji, Shoji Nagumo, Yasuhito Gotoh, Junzo Ishikawa

Applied Surface Science 100-101 360 - 364 1996年

記述言語：英語出版者・発行元：Elsevier

The energy distribution of secondary electrons emitted from an insulator during negative-ion implantation was measured. According to secondary-electron-energy analysis, the charging voltage of insulator was estimated from the measured energy distribution. The experimental results in negative-carbon-ion implantation showed that the charging voltages of a quartz glass plate and a photoresist film on silicon substrate are several negative volts in the energy range from 5 to 35 keV and decrease gradually with increasing ion energy. The low negative charging voltage of insulator and the most probable energy of the secondary-electron energy distribution during negative-ion implantation are discussed using a charging model based on an electric double layer.

DOI： 10.1016/0169-4332(96)00242-5

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