2021/12/16 更新

写真a

ニシカワ タケシ
西川 亘
NISHIKAWA Takeshi
所属
自然科学学域 助教
職名
助教
外部リンク

学位

  • 博士(工学) ( 大阪大学 )

  • 工学修士 ( 大阪大学 )

研究分野

  • エネルギー / プラズマ応用科学

  • 自然科学一般 / 数理物理、物性基礎

  • エネルギー / プラズマ科学

学歴

  • 大阪大学   Graduate School, Division of Engineering  

    - 1992年

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  • 大阪大学    

    - 1992年

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    国名: 日本国

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  • 大阪大学   School of Engineering  

    - 1989年

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    国名: 日本国

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  • 大阪大学   Faculty of Engineering  

    - 1989年

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所属学協会

委員歴

  • プラズマ・核融合学会   代議員  

    2000年   

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    団体区分:学協会

    プラズマ・核融合学会

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  • 日本物理学会   原子・分子分科世話人  

    1998年   

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    団体区分:学協会

    日本物理学会

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論文

  • Improved room-temperature thermoelectric characteristics in F4TCNQ-doped CNT yarn/P3HT composite by controlled doping

    May Thu Zar Myint, Takeshi Nishikawa, Hirotaka Inoue, Kazuki Omoto, Aung Ko Ko Kyaw, Yasuhiko Hayashi

    ORGANIC ELECTRONICS   90   2021年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:ELSEVIER  

    High room-temperature thermoelectric performance is important for low-grade waste heat power generation as there are plenty of heat thrown away uselessly in our daily life, most of which are below 100 degrees C. However, most of the thermoelectric materials are limited to high temperature application. In this work, room-temperature thermoelectric power factor of carbon nanotube (CNT) yarn is improved by controlled doping, which is achieved by making composite with poly 3-hexylthiophene -2, 5-diyl (P3HT) followed by doping with 2, 3, 5, 6-tetrafluo-7, 7, 8, 8-tetracyanoquinodimethane (F4TCNQ). The temperature-dependent Seebeck coefficient based on power-law model suggests that P3HT shifts the Fermi energy of CNT yarn towards the valence band edge, and reduces the ionic scattering and carrier relaxation time. As a result, the Seebeck coefficient is increased while the variation of Seebeck coefficient with temperature is reduced, and hence, the room-temperature thermoelectric power factor is improved. With controlled doping, the power factor of CNT yarn/P3HT composite reaches to 1640-2160 mu W m(-1)K(-2) at the temperature range of 25-100 degrees C, which is higher than that of CNT yarn alone.

    DOI: 10.1016/j.orgel.2020.106056

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  • Single crystal of two-dimensional mixed-halide copper-based perovskites with reversible thermochromism

    Amr Elattar, Hiroo Suzuki, Ryuji Mishima, Kodai Nakao, Hiromi Ota, Takeshi Nishikawa, Hirotaka Inoue, Aung Ko Ko Kyaw, Yasuhiko Hayashi

    Journal of Materials Chemistry C   9 ( 9 )   3264 - 3270   2021年

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Royal Society of Chemistry (RSC)  

    <p>Facile synthesis of single crystal of two-dimensional mixed-halide copper-based perovskites with tunable band gaps and their capability of exfoliation and reversible thermochromism.</p>

    DOI: 10.1039/d0tc04307a

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  • Influence of pressure of nitrogen gas on structure and thermoelectric properties of acid-treated PEDOT: PSS films 査読

    May Thu Zar Myint, Hirotaka Inoue, Susumu Ichimura, Takeshi Nishikawa, Yuta Nishina, Aung Ko Ko Kyaw, Yasuhiko Hayashi

    Journal of Materials Science: Materials in Electronics   30 ( 14 )   13534 - 13542   2019年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s10854-019-01721-2

    Scopus

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  • Bond Dissociation Triggering Molecular Disorder in Amorphous H2O 査読

    M Hada, Y Shigeeda, S Koshihara, T Nishikawa, Y Yamashita, Y Hayashi

    The Journal of Physical Chemistry A   122 ( 49 )   9579 - 9584   2018年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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  • 研究最前線 高速成長した長尺・高密度2層カーボンナノチューブから乾式紡績による線材の開発

    林 靖彦, 井上 寛隆, 林 拓磨, 徳永 知春, 羽田 真毅, 西川 亘

    Nanofiber : ナノファイバー学会誌   8 ( 1 )   29 - 33   2017年7月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:ナノファイバー学会  

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  • Investigation of the ionization balance of bismuth-to-tin plasmas for the extreme ultraviolet light source based on a computer-generated collisional radiative model 査読

    Akira Sasaki ,Atsushi Sunahara ,Katsunobu Nishihara ,Takeshi Nishikawa*

    AIP Advances   6 ( 10 )   2016年10月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4964496

    Web of Science

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  • Atomic process modeling in dense hydrogenic plasmas by nearest neighbor approximation 査読

    T. Nishikawa*

    Journal of Physics: Conference Series   688 ( 1 )   2016年4月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/688/1/012077

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  • Atomic process modeling in dense hydrogenic plasmas by nearest neighbor approximation 査読

    Takeshi Nishikawa

    Journal of Physics: Conference Series   688 ( 1 )   2016年3月

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    担当区分:筆頭著者   記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/688/1/012099

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  • Atomic processes and equation of state of high Z plasmas for EUV sources and their effects on the spatial and temporal evolution of the plasmas 査読

    Akira Sasaki ,Atushi Sunahara ,Hiroyuki Furukawa ,Katsunobu Nishihara,Takeshi Nishikawa*,Fumihiro Koike

    Journal of Physics: Conference Series   688 ( 1 )   2016年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/688/1/012099

    Web of Science

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  • 21aCJ-9 電子線照射により拡大した積層欠陥の縮小に伴う4H-SiCエピ膜中部分転位の運動

    山下 善文, 下村 拓也, 西川 亘, 林 靖彦

    日本物理学会講演概要集   70   2683 - 2683   2015年

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:一般社団法人日本物理学会  

    DOI: 10.11316/jpsgaiyo.70.1.0_2683

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  • Modeling of free electronic state density in hydrogenic plasmas based on nearest neighbor approximation 査読

    Takeshi Nishikawa

    PHYSICS OF PLASMAS   21 ( 7 )   072713   2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4891440

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  • Modeling of radiative properties of Sn plasmas for extreme-ultraviolet source (vol 107, 113303, 2010)

    Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, Hiroyuki Furukawa, Katsunobu Nishihara, Shinsuke Fujioka, Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike, Hayato Ohashi, Hajime Tanuma

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   108 ( 2 )   2010年7月

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    記述言語:英語   出版者・発行元:AMER INST PHYSICS  

    DOI: 10.1063/1.3464541

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  • Atomic processes in the LPP and LA-DPP EUV sources

    Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Atsushi Sunahara, Hiroyuki Furukawa, Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike

    ALTERNATIVE LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES   7271   2009年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING  

    We investigate characteristic feature of the atomic radiation from tin plasmas, which allow one to obtain high power EUV emission at lambda = 13.5nm efficiently. We develop a collisional radiative model of tin ions to calculate steady-state and time dependent ion abundance, level population, and coefficients of radiative transfer of the plasma. The model, which is based atomic data calculated using the Hullac code is refined both theoretically and experimentally. Calculation of the spectral emissivity and opacity are carried out over a wide range of plasma density and temperature, and pumping conditions to obtain high conversion efficiency are discussed.

    DOI: 10.1117/12.814026

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  • Plasma physics and radiation hydrodynamics in developing an extreme ultraviolet light source for lithographya… 査読

    Katsunobu Nishihara, 間に12名, Takeshi Nishikawa, 後ろに12名

    PHYSICS OF PLASMAS   15 ( 5 )   056708-1 - 056708-11   2008年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2907154

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  • EUV Source Design Flexibility for Lithography 査読

    T Nishikawa, A Sunahara, A Sasaki, and K Nishihara

    Journal of Physics: Conference Series   112   42065   2008年4月

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  • Detailed atomic modeling of Sn plasmas for the EUV source 査読

    A. Sasaki, A. Sunahara, K. Nishihawra, T. Nishikawa, F. Koike, and H.Tanuma

    Journal of Physics: Conference Series   112   42062   2008年4月

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  • Advanced laser-produced EUV light source for HVM with conversion efficiency of 5-6% and B-field mitigation of ions (Invited Paper)

    Katsunobu Nishihara, 間に8名, Takeshi Nishikawa, 後ろに7名

    SPIE Advance Lithography   6921 ( 33 )   2008年2月

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  • レーザー生成スズプラズマからの極端紫外光発生の放射流体シミュレーション 査読

    砂原淳、佐々木明、田沼肇、西原功修、*西川亘、小池文博、藤岡慎介、青田達也、山浦道照、島田義則、西村博明、井澤靖和、宮永憲明、三間圀興

    プラズマ・核融合学会誌   920   2007年4月

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  • Development of EUV light source by laser-produced plasma

    Y. Izawa, N. Miyanaga, H. Nishimura, 間に12人 *T. Nishikawa, H. Tanuma, T. Norimatsu, K. Nagai, Q. Gu, M. Nakatsuka, H. Fujita, K. Tsubakimoto, H. Yoshida, and K. Mima

    Journal de physique IV   2006年6月

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  • Numerical analysis of energy trasport by intense resonance line in Lithium plasmas

    *T. Nishikawa, K. Gamada, A. Sunahara, K. Nishihara

    Journal de physique IV   2006年6月

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  • Progress in LPP EUV source development at Osaka University

    Noriaki Miyanaga, Hiroaki Nishimura, Shinsuke Fujioka, Tatsuya Aota, Shigeaki Uchida, Michiteru Yamaura, Yoshinori Shimada, Kazuhisa Hashimoto, Keiji Nagai, Takayoshi Norimatsu, Katsunobu Nishihara, Masakatsu Murakami, Vasilli Zhakhovskii, Young Gwang Kang, Atsushi Sunahara, Hiroyuki Furukawa, Akira Sasaki, Takeshi Nishikawa, Masahiro Nakatsuka, Hisanori Fujita, Koji Tsubakimoto, Hidetsugu Yoshida, Yasukazu Izawa, Kunioki Mima

    EMERGING LITHOGRAPHIC TECHNOLOGIES X, PTS 1 AND 2   6151   U567 - U574   2006年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:SPIE-INT SOC OPTICAL ENGINEERING  

    For EUV lithography the generation of clean and efficient light source and the high-power laser technology are key issues. Theoretical understanding with modeling and simulation of laser-produced EUV source based on detailed experimental database gives us the prediction of optimal plasma conditions and their suitable laser conditions for different target materials (tin, xenon and lithium). With keeping etendue limit the optimal plasma size is determined by an appropriate optical depth which can be controlled by the combination of laser wavelength and pulse width. The most promising candidate is tin (Sri) plasma heated by Nd:YAG laser with a pulse width of a few ns. Therefore the generation technology of clean Sri plasma is a current important subject to be resolved for practical use. For this purpose we have examined the feasibility of laser-driven rocket-like injection of extremely mass-limited Sri or SnO2 (punched-out target) with a speed exceeding 100m/s. Such a mass-limited low-density target is most preferable for substantial reduction of ion energy compared with usual bulk target. For high average power EUV generation we are developing a laser system which is CW laser diode pumped Nd:YAG ceramic laser (master oscillator and power amplifier system) operating at 5-10 kHz repetition rate. The design of practical laser for EUV source is being carried out based on the recent performance of > 1 kW output power.

    DOI: 10.1117/12.656555

    Web of Science

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  • Opacity Effect on Extreme Ultraviolet Radiation from Laser-Produced Tin Plasmas

    S. Fujioka, H. Nishimura, K. Nishihara, 間に13人 *T. Nishikawa, N. Miyanaga, Y. Izawa, and K. Mima

    Phys. Rev. Lett.   2005年12月

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  • Characterization of extreme ultraviolet emission from laser-produced spherical tin plasma generated with multiple laser beams

    Y. Shimada, H. Nishimura, M. Nakai, K. Hashimoto, M. Yamaura, Y. Tao, K. Shigemori, T. Okuno, K. Nishihara, T. Kawamura, A. Sunahara, *T. Nishikawa, et al.

    APPLIED PHYSICS LETTERS   2005年1月

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  • Effect of the satellite lines and opacity on the extreme ultraviolet emission from high density Xe plasmas

    Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Masakatsu Murakami, Fumihiro Koike, Takashi Kagawa, *Takeshi Nishikawa, Kazumi Fujima, Tohru Kawamura, Hiroyuki Furukawa

    Applied Physics Letter   2004年12月

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  • Theoretical simulation of extreme UV radiation source for lithography

    K. Fujima, K. Nishihara, T. Kawamura, H. Furukawa, T. Kagawa, F. Koike, R. More, M. Murakami, *T. Nishikawa, A. Sasaki, A. Sunahara, V. Zhakhovskii, T. Fujimoto, H. Tanuma

    Proc. SPIE   2004年4月

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  • レーザー生成球対称Snプラズマからの極短紫外線(EUV)放射特性

    西村博明25名20番目

    プラズマ・核融合学会誌   2004年4月

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  • Estimation of emission efficiency for laser-produced EUV-plasmas

    Kawamura, K. Fujima, F. Koike, H. Furukawa, A. Sunahara, *T. Nishikawa, A. Sasaki, T. Kagawa, R. More, M. Murakami, V. Zhakhovskii, T. Fujimoto, H. Tanuma, K. Nishihara

    Proc. SPIE   2004年4月

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  • Simulation of the EUV spectrum of Xe and Sn plasmas

    Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Fumihiro Koike, Takashi Kagawa, *Takeshi Nishikawa, Kazumi Fujima, Tohru Kawamura and Hiroyuki Furukawa

    special issue of the IEEE, Journal of Selected Topics in Quantum Electronics on "Short wavelength and EUV Lasers"   2004年1月

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  • Simple atomic model based on the plasma microfield

    Takeshi NISHIKAWA

    Proceedings of Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications 2001, September 9-14, 2001, Kyoto (IFSA2001)   2001年4月

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  • Novel Laboratory Fusion Sources

    T. Kenmotsu, *T. Nishikawa, R. More

    Proceedings of Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications 2001, September 9-14, 2001, Kyoto (IFSA2001)   2001年4月

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  • Energy level data recommendation by screening constant

    Takeshi NISHIKAWA

    Journal of Qunatitative Spectroscopy and Radiative Transfer   67 ( 1 )   43 - 54   2000年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S0022-4073(99)00192-2

    Web of Science

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  • Simple Expression of Occupation Probability in the ``Chemical Picture''

    Takeshi NISHIKAWA

    The Astrophysical Journal   532 ( 1 )   670 - 672   2000年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Web of Science

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  • SOFT-X-RAY SPECTRA OF HIGHLY IONIZED ELEMENTS WITH ATOMIC NUMBERS RANGING FROM 57 TO 82 PRODUCED BY COMPACT LASERS

    GM ZENG, H DAIDO, T NISHIKAWA, H TAKABE, S NAKAYAMA, H ARITOME, K MURAI, Y KATO, M NAKATSUKA, S NAKAI

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   75 ( 4 )   1923 - 1930   1994年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:AMER INST PHYSICS  

    X-ray emission spectra in the spectral range of 2-13 nm from 19 kinds of material with high atomic numbers (lanthanum through lead) were recorded with a grazing incidence spectrometer equipped with a microchannel plate detector. There is an intense, narrow spectral band in these spectra which shifts toward shorter wavelength and becomes weak in intensity with increasing atomic number. The materials were irradiated either by a 4 J/35 ns slab Nd:glass laser or by a 0.5 J/8 ns Nd:YAG laser. The absolute photon intensities of the spectra were determined with an absolutely calibrated charge coupled device camera. The peak spectral brightness of the emission at the peak intensity of the spectral band for lanthanum plasma was estimated to be 2.1 X 10(16) photons/s/mm2/mrad2 in 0.1% bandwidth. The origin of the narrow, intense spectral bands in the recorded spectra and their dependence on target materials and laser wavelength are interpreted.

    DOI: 10.1063/1.356339

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  • COMPUTATIONAL MODEL FOR NON-LTE ATOMIC PROCESS IN LASER-PRODUCED PLASMAS

    H TAKABE, T NISHIKAWA

    JOURNAL OF QUANTITATIVE SPECTROSCOPY & RADIATIVE TRANSFER   51 ( 1-2 )   379 - 395   1994年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:PERGAMON-ELSEVIER SCIENCE LTD  

    A computational model for simulating hydro-radiation phenomena has been studied relating to the partially ionized gold plasma produced by irradiation of intense laser light. The screened hydrogenic model with l-splitting effect and the average ion model are used to determine the atomic state of gold ions in the collisional radiative equilibrium. A statistical method is used to evaluate the spectral opacity and emissivity due to the clusters of line transitions. The x-ray conversion rate and spectrum calculated with the hydrodynamic code ILESTA coupled with the opacity and emissivity are compared with those observed experimentally.

    DOI: 10.1016/0022-4073(94)90101-5

    Web of Science

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  • PLASMA X-RAY SOURCE OF VARIOUS MATERIALS PRODUCED BY COMPACT SOLID-STATE LASERS

    GM ZENG, H DAIDO, S NAKAYAMA, K MURAI, T NISHIKAWA, S KIYOKAWA, H TAKABE, H ARITOME, M NAKATSUKA, Y KATO, S NAKAI

    APPLICATIONS OF LASER PLASMA RADIATION   2015   45 - 56   1994年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:SPIE - INT SOC OPTICAL ENGINEERING  

    DOI: 10.1117/12.168000

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  • Line Profile Modeling for non-LTE partially ionized plasmas based on average atom model with l-splitting

    Laser and Particle Beams   11 ( 1 )   81 - 87   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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  • NON-LTE ATOMIC MODELING FOR LASER-PRODUCED PLASMAS

    H TAKABE, S NAKAMURA, T NISHIKAWA

    LASER AND PARTICLE BEAMS   11 ( 1 )   119 - 126   1993年

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:CAMBRIDGE UNIV PRESS  

    Atomic modeling of high-Z partially ionized plasma is essential for simulating radiation hydrodynamics of laser-produced plasma. A collisional-radiative model based upon an average atom model is used to calculate plasma opacity and emissivity. Because line radiations are most dominant in such plasma, the detail configuration accounting (DCA) for electronic state is required. We propose a statistical method to carry out the DCA with the use of the average population of bound electrons. Further modeling of line group made of the same transition from ions in different change states is discussed by considering the detail structure (hierarchy) of the line group.

    Web of Science

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  • Statistical Approach for Calculating Opacities of High-Z Plasmas

    Journal Plasma Fusion Research   68,145   1992年

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  • 統計手法を用いた高Zプラズマの原子モデル

    核融合研究   68,145   1992年

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  • X-RAY-EMISSION AND TRANSPORT IN GOLD PLASMAS GENERATED BY 351-NM LASER IRRADIATION

    H NISHIMURA, H TAKABE, K KONDO, T ENDO, H SHIRAGA, K SUGIMOTO, T NISHIKAWA, Y KATO, S NAKAI

    PHYSICAL REVIEW A   43 ( 6 )   3073 - 3085   1991年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:AMERICAN PHYSICAL SOC  

    Emission and transport characteristics of sub-keV x rays in laser-produced gold plasmas are investigated. Absolute x-ray spectra under three different experimental conditions have been measured with high spectral resolution to study dependences of x-ray emission on laser incidence angles, irradiation intensity, and thickness of a foil target. Simulations by a one-dimensional hydrodynamic code, which incorporates a detailed atomic physics, replicate quite well the general x-ray emission features obtained in the experiments. There remain, however, discrepancies in some details of spectral shapes, notably in the range between 0.5 and 0.9 keV. It is also shown that the transport of radiation heat wave deduced from x-ray emissions at the front and the rear sides of a thin gold foil may be interpreted by the self-similar solutions presented by Pakula and Sigel [Phys. Fluids. 28, 232 (1985); 29, 1340 (E) (1986)] with an approximated gold opacity under local thermodynamic equilibrium.

    DOI: 10.1103/PhysRevA.43.3073

    Web of Science

    PubMed

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  • ION KINETIC EFFECT ON FUSION REACTION-RATE

    T NISHIKAWA, H TAKABE, K MIMA

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   28 ( 10 )   2004 - 2010   1989年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:JAPAN J APPLIED PHYSICS  

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書籍等出版物

  • EUV Sources for Lithography

    Katsunobu Nishihara, Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, *Takeshi Nishikawa( 担当: 単著 ,  範囲: Chapter 11 Conversion Efficiency of LPP Sources)

    SPIE Press  2005年4月 

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    担当ページ:339-370  

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  • Novel Laboratory Fusion Sources(共著)

    Elsevier, Proceedings of Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications, September 9-14, 2001, Kyoto (IFSA2001)  2001年 

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  • Simple atomic model based on the plasma microfield

    Elsevier, Proceedings of Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications 2001, September 9-14, 2001, Kyoto (IFSA2001)  2001年 

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MISC

  • エネルギー輸送の違いから見たカーボンナノチューブの通電加熱の効果

    中條大樹, 井上寛隆, 黒田泰平, 森本大我, 林拓磨, 徳永知春, 池田直, 横谷尚睦, 藤森和博, 羽田真毅, 西川亘, 山下善文, 紀和利彦, 林靖彦

    応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)   65th   2018年

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  • ポリジアセチレンの熱・光誘起による相転移とそれに伴う構造変化

    森光生, 羽田真毅, 林靖彦, 山下善文, 西川亘, 井上寛隆, 伊東千尋, 腰原伸也

    応用物理・物理系学会中国四国支部合同学術講演会講演予稿集   2018   2018年

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  • 10aAE-4 Ge濃度の異なるSbドープSiGe薄膜中の貫通転位運動(10aAE 格子欠陥(半導体・金属・転位),領域10(構造物性(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン)))

    山下 善文, 牧 慎也, 伏見 竜也, 大野 裕, 米永 一郎, 西川 亘, 林 靖彦

    日本物理学会講演概要集   69 ( 2 )   706 - 706   2014年8月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:一般社団法人日本物理学会  

    CiNii Article

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  • 28pAM-12 電子線照射下および暗黒下における4H-SiC中部分転位の運動(28pAM 格子欠陥・ナノ構造(金属・半導体・転位・面欠陥),領域10(誘電体,格子欠陥,X線・粒子線,フォノン))

    山下 善文, 下村 拓也, 藤井 悠司, 西川 亘, 林 靖彦

    日本物理学会講演概要集   69 ( 1 )   933 - 933   2014年3月

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    記述言語:日本語   出版者・発行元:一般社団法人日本物理学会  

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  • Recommended Atomic Data for Collisional-radiatire Model of LI-like Ions and Gain Cakulation for la Li-like Ai Ions in the Recombining Plasmas

    NIFS-DATA-30, NATIPMA; OMSTOTITE FPR FISOPM SCOEMCE   9103p   1995年

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  • Atomic Modeling and Radiation Transport in Laser Produced Plasmas

    Technology Reports of the Osaka University   41,253   1991年

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講演・口頭発表等

  • レーザー、放電励起EUV光源における原子過程および放電初期過程の考察

    佐々木明,西原功修,砂原淳,*西川亘,小池文博,古河裕之

    第70回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日: 2009年9月8日

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:富山大学  

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  • The atomic model of the Sn plasmas for the EUV sources

    Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, Katsunobu Nishihara, Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike, Hajime Tanuma

    14th Internationl Conference on the Physics of Highly Charged Ions 

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    開催年月日: 2008年9月2日

    会議種別:ポスター発表  

    開催地:Chofu, Tokyo, JAPAN  

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  • EUV~軟X線領域のプラズマ 光源のモデリング

    佐々木 明、1西原 功修、2砂原 淳、 3西川 亘、4小池 文博、2古河 裕之

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    開催年月日: 2008年4月

    会議種別:口頭発表(一般)  

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  • Advanced laser-produced EUV light source for HVM with conversion efficiency of 5-6% and B-field mitigation of ions (Invited Paper)

    Katsunobu Nishihara, 間に8名, Takeshi Nishikawa*, 後ろに7名

    EUV Source II, SPIE Advance Lithography 

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    開催年月日: 2008年2月27日

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:San Jose, California, USA  

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  • EUV Source Desgin Flexility for Lithography

    *Nishikawa Takeshi, Sunahara Atsushi, Sasaki Akira, Nishihara Katsunobu

    Fifth International Conference on Inertial Fusion Science and Applications 

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    開催年月日: 2007年9月11日

    開催地:Kobe  

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  • Snの輻射放出・吸収係数に対する発光線波長の精度の影響

    佐々木明、西原功修、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇

    第54回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日: 2007年3月29日

    開催地:青山学院大学 相模原キャンパス  

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  • レーザー生成錫プラズマからの極端紫外光発生の最適化

    砂原淳、西原功修、佐々木明、*西川亘、藤岡慎介、青田達也、山浦道照、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間圀興

    レーザー学会学術講演会第27回年次大会 

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    開催年月日: 2007年1月18日

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  • Detailed Modeling of Atomic Process and Radiative Transfer of the EUV Source Plasmas

    Akira Sasaki, Atsushi Sunahara, Katsunobu Nishihara, *Takeshi Nishikawa, Fumihiro Koike, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma

    EUV Source Workshop 

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    開催年月日: 2006年10月19日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • Laser and Target Optimization for the Highest Conversion to 13.5 nm EUV Light with Laser Produced, Minimum-Mass Tin Plasma

    Hiroaki Nishimura他18名11番目

    5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2006年10月15日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • Radiation Hydrodynamic Simulation for LPP EUV Sources

    Atsushi Sunahara他11名4番目

    5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2006年10月15日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • Systematics of Atomic 4d-4f Transitions of Atomic Ions in EUVL Source Plasmas and Neighboring Atomic Numbers

    Fumihiro Koike, Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Atsushi Sunahara, Takeshi Nishikawa, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma

    5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2006年10月15日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • Theoretical Guidelines of LPP-EUV Sources for HVM

    Katsunobu Nishihara他21名10番目

    5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2006年10月15日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • Modeling of the Atomic Processes in EUVL Source Plasmas

    Akira Sasaki, Katsunobu Nishihara, Atsushi Sunahara, *Takeshi Nishikawa, Fumihiro. Koike, Takashi Kagawa, Hajime Tanuma

    5nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2006年10月15日

    開催地:Barcelona, Spain  

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  • EUV光源用Sn, Xeの詳細原子モデル

    佐々木明、西原功修、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇

    日本物理学科2006年秋季大会 

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    開催年月日: 2006年9月23日

    開催地:千葉大学西千葉キャンパス  

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  • レーザー生成プラズマからの極端紫外光発生の2次元シミュレーションII

    砂原淳、西原功修、佐々木明、西川亘、青田達也、山浦道照、藤岡慎介、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間国興

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日: 2006年8月30日

    開催地:立命館大学びわこ・くさつキャンパス  

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  • EUV光源の原子過程モデルの高精度化

    佐々木明、西原功修、砂原淳、西川亘、香川貴司、小池文博、田沼肇

    第67回応用物理学会学術講演会 

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    開催年月日: 2006年8月30日

    開催地:立命館大学びわこ・くさつキャンパス  

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  • Xe, Snプラズマの原子モデル改良の課題

    佐々木明、西原功修、前原宏昭、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2006年3月24日

    開催地:武蔵工業大学世田谷キャンパス  

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  • LPP EUV光源のターゲット材料としてのスズ、およびスズ化合物の理論解析

    *西川亘、砂原淳、佐々木明、西原功修

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2006年3月24日

    開催地:武蔵工業大学世田谷キャンパス  

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  • レーザー生成プラズマからの極端紫外光発生の2次元放射流体シミュレーション

    砂原淳、西原功修、佐々木明、*西川亘、古河裕之、前原宏昭、山浦道照、藤岡慎介、島田義則、西村博明、宮永憲明、井澤靖和、三間圀興

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2006年3月24日

    開催地:武蔵工業大学世田谷キャンパス  

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  • Analysis of the emission spectrum of Xe and Sn

    A. Sasaki, K. Nishihara, F. Koike, T. Kagawa, *T. Nishikawa, A. Sunahara, H. Tanuma

    SPIE microlithography 2006 

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    開催年月日: 2006年2月23日

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  • レーザープラズマによるEUVリソグラフィー用光源の開発

    宮永憲明他31名30番目

    レーザー学会学術講演会第27回年次大会 

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    開催年月日: 2006年1月17日

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  • Characteristics of Emission Lines from Xe, Sn, and Other Species at EUV Region

    F. Koike, K. Nishihara, A. Sunahara, H. Maehara, *T. Nishikawa, A. Sasaki, T. Kagawa, H. Tanuma

    4nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

    開催地:San Diego, CA, USA  

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  • High Conversion to 13.5 nm EUV and Debris Mitigation with Mass-limited Plasmas Generated with Laser

    Hiroaki Nishimura他24人14番目

    4nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

    開催地:San Diego, CA, USA  

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  • Progress in LPP EUV Source Development by Japan MEXT Project

    Yasukazu Izawa他23人18番目

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

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  • Radiative properties of Xe and Sn plasmas

    A. Sasaki, K. Nishihara, A. Sunahara, H. Maehara, *T. Nishikawa, F. Koike, T. Kagawa, H. Tanuma

    4nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

    開催地:San Diego, CA, USA  

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  • Theoretical Modeling and Optimization of LPP EUV Light Source

    K. Nishihara他23人12番目

    4nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

    開催地:San Diego, CA, USA  

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  • Physics of laser-produced Li plasma EUV light source

    *T. Nishikawa, A. Sunahara, A. Sasaki, K. Nishihara

    4nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2005年11月7日 - 2005年11月9日

    開催地:San Diego, CA, USA  

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  • EUV光源プラズマの原子モデルの特性

    佐々木明、西原功修、前原宏昭、*西川亘、砂原淳、小池文博、田沼肇

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2005年9月19日

    開催地:同志社大学京田辺キャンパス  

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  • 時間依存の原子過程を含んだレーザーアブレーションのシミュレーション

    古河裕之、佐々木明、*西川亘、西原功修、三間圀興

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2005年9月19日

    開催地:同志社大学京田辺キャンパス  

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  • Xe, Snプラズマのemissivity, opacityの特性

    佐々木明、西原功修、前原宏昭、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年9月10日

    開催地:徳島大学 常三島キャンパス  

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  • レーザー生成EUVプラズマからの高エネルギー粒子に関する考察

    古河裕之、佐々木明、*西川亘、藤岡慎介、西村博明、西原功修、宮永憲明、井澤靖和、三間圀興、山中千代衛

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年9月10日

    開催地:徳島大学 常三島キャンパス  

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  • 輻射励起を考慮したレーザー生成プラズマからのEUV光発生特性

    前原宏昭、西原功修、砂原淳、古河裕之、佐々木明、*西川亘

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年9月10日

    開催地:徳島大学 常三島キャンパス  

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  • 小委員会活動による教育改善活動・・・岡山大学工学部電気電子工学科

    小西正躬、藤原耕二、金範錫、佐薙稔、*西川亘、石山武、野木茂次

    電気学会教育フロンティア研究会 

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    開催年月日: 2005年8月4日

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  • EUV光源のターゲット材料としてのリチウムの理論解析

    *西川亘、蒲田康平、古河裕之、砂原淳、佐々木明、西原功修

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • 輻射流体シミュレーションによるレーザー生成プラズマからの極端紫外光放射特性解析

    砂原淳、西原功修、蒲田幸平、前原宏昭、佐々木明、*西川亘、古河裕之、島田義則、山浦道照、陶業争、内田成明、藤岡慎介、西村博明、宮永憲明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • 詳細原子モデルによるXe, Snプラズマのemissivity, opacity

    佐々木明、西原功修、蒲田幸平、砂原淳、*西川亘、小池文博、香川貴司、田沼肇

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • 種々のターゲット物質のEUV変換効率と輻射輸送

    蒲田幸平、西原功修、砂原淳、古河裕之、佐々木明、*西川亘、河村徹

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • LPP-UEV光における輻射励起・電離の効果

    前原宏昭、西原功修、蒲田幸平、砂原淳、古河裕之、佐々木明、*西川亘

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • LPP-EUV光源から発生する光速イオンの速度分布モデルリング

    村上匡且、姜永光、西原功修、西村博明、藤岡慎介、陶業争、山浦道照、長井圭治、内田成明、宮永憲明、砂原淳、*西川亘、佐々木明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • レーザー生成EUV Xeプラズマからの高エネルギー粒子に関する考察

    古河裕之、河村徹、*西川亘、佐々木明、藤間一美、藤岡慎介、西村博明、西原功修、宮永憲明、井澤靖和、山中千代衛

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月31日

    開催地:埼玉大学  

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  • EUV放射プラズマのオパシティー構造と放射効率の関係

    藤岡慎介、西村博明、奥野智晴、島田義則、橋本和久、一木理史、重森啓介、中井光男、陶業争、上田修義、安藤強史、谷勤翠、長井圭治、乗松孝好、佐々木明、*西川亘、砂原淳、西原功修、宮永憲明、井澤靖和田沼肇

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月24日

    開催地:東京理科大学野田キャンパス  

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  • EUV光源用Xe, Snプラズマの原子過程モデリング

    佐々木明、西原功修、蒲田幸平、*西川亘、砂原淳、小池文博、香川貴司、田沼肇

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2005年3月24日

    開催地:東京理科大学野田キャンパス  

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  • Estiamtions on high energy ions and neutral particles from LPP EUV light sources

    H. Furukawa, T. Kawamura, *T. Nishikawa, A. Sasaki, K. Fujima, S. Fujioka, H. Nishimura, K. Nishihara, N. Miyanaga, Y. Izawa, C. Yamanaka

    SPIE 30th Annual International Symposium on Microlithography 

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    開催年月日: 2005年2月27日 - 2005年3月4日

    開催地:San Jose  

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  • Modeling of the atomic processes in the laser-plamsa EUV sources

    A. Sasaki, K. Nishihaar, F. Koike, K. Kagawa, H. Tanuma, A. Sunahara, K. Gamada, *T. Nishikawa

    SPIE 30th Annual International Symposium on Microlithography 

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    開催年月日: 2005年2月27日 - 2005年3月4日

    開催地:San Jose  

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  • EUV light source design by Li target LPP

    *T. Nishikawa, K. Gamada, K. Nishihara

    EUVL Source Workshop 

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    開催年月日: 2005年2月27日

    開催地:San Jose, USA  

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  • レーザー生成スズプラズマからのEUV光発生の放射流体シミュレーション

    砂原淳、西原功修、蒲田幸平、*西川亘、佐々木明、古河裕之、島田義則、山浦道照、内田成明、藤岡慎介、西村博明、宮永憲明、井澤靖和

    プラズマ・核融合学会第21回年会 

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    開催年月日: 2004年11月24日

    開催地:静岡コンベンションアーツセンター「グランシップ」  

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  • 新しい遮蔽水素モデルを用いたEUV放射プラズマの原子過程モデル

    *西川亘、佐々木明、砂原淳、古河裕之、西原功修

    プラズマ・核融合学会第21回年会 

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    開催年月日: 2004年11月24日

    開催地:静岡コンベンションアーツセンター「グランシップ」  

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  • Modeling of LPP EUV Light Source at Japan MEXT Leading Project

    K. Nishihara他21名11番目

    3nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2004年11月1日 - 2004年11月4日

    開催地:Miyazaki, Japan  

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  • Atomic models for radiation transport in laser plasma hydrodynamic simulation of EUV light source

    *Takeshi Nishikawa, Akira Sasaki, Hiroyuki Furukawa, Atsushi Sunahara, and Katsunobu Nishihara

    3nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2004年11月1日 - 2004年11月4日

    開催地:Miyazaki, Japan  

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  • Experimental Database of LPP EUV Sources at ILE and ILT

    N. Miyanaga他28人27番目

    3nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2004年11月1日 - 2004年11月4日

    開催地:Miyazaki, Japan  

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  • Numerical Analysis of Extreme Ultra-Violet Emission from Laser-Produced Tin Plasmas

    Atsushi Sunahara他14人3番目

    3nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2004年11月1日 - 2004年11月4日

    開催地:Miyazaki, Japan  

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  • The Role of Interference and Correlations in 13.5 nm Radiations of Sn and Xe Atomic Ions -- For Precise and Accurate Determination of Sprctral

    F. Koike, K. Nishihara, A. Sasaki, T. Kagawa, *T. Nishikawa, K. Fujima, T. Kawamura, and H. Furukawa

    3nd International Extreme Ultra-Violet Lithography (EUVL) Symposium 

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    開催年月日: 2004年11月1日 - 2004年11月4日

    開催地:Miyazaki, Japan  

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  • Atomic Data for Laser Produced Plasma Extreme Ultra Violet Light Source

    K. Nishihara他21人11番目

    Joint Meeting 14th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion 4th International Conference on Atomic and Molecular Data and Their Applications 

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    開催年月日: 2004年10月5日 - 2004年10月8日

    開催地:Toki, Gifu, Japan  

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  • Precise and Accurate Calculations of Electronic Transitions in Heavy Atomic Ions Relevant to Extreme Ultra-Violet Light Sources

    F. Koike, K. Nishihara, A. Sasaki, T. Kagawa, *T. Nishikawa, K. Fujima, T. Kawamura, H. Furukawa

    Joint Meeting 14th International Toki Conference on Plasma Physics and Controlled Nuclear Fusion 4th International Conference on Atomic and Molecular Data and Their Applications 

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    開催年月日: 2004年10月5日 - 2004年10月8日

    開催地:Toki, Gifu, Japan  

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  • EUV光源プラズマの原子過程モデルと流体シミュレーション

    *西川亘、砂原淳、佐々木明、古河裕之、西原功修

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2004年9月12日

    開催地:青森大学  

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  • Interference effects in correlated transitions of heavy atomic ions

    F. Koike, K. Nishihara, A. Sasaki, T. Kagawa, *T. Nishikawa, K. Fujima, T. Kawamura, H. Furukawa

    12th International Conference on the Physics of Highly Charged Ions 

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    開催年月日: 2004年9月6日 - 2004年9月11日

    開催地:Vilnus, Lithuania  

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  • パワーバランス解析モデルを用いたEUV2%BWへの変換効率の考察

    蒲田幸平、西原功修、砂原淳、古河裕之、佐々木明、*西川亘、河村徹

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年9月2日

    開催地:東北学院大学(泉キャンパス)  

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  • EUV光源プラズマ流体シミュレーションのための原子過程モデルとデータセット

    *西川亘、佐々木明、古河裕之、砂原淳、西原功修

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年9月2日

    開催地:東北学院大学(泉キャンパス)  

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  • 輻射流体シミュレーションによるEUV放射の波長依存性の解析

    砂原淳、西原功修、*西川亘、佐々木明、古河裕之、蒲田幸平、山浦道照、藤岡慎介、島田義則、内田成明、橋本和久、西村博明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年9月2日

    開催地:東北学院大学(泉キャンパス)  

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  • Xe,Snプラズマの詳細原子モデル

    佐々木明、西原功修、砂原淳、*西川亘

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年9月2日

    開催地:東北学院大学(泉キャンパス)  

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  • Simulations on laser ablation and its applications

    Hiroyuki Furukawa, Tohru Kawamura, Atsushi Sunahara, *Takeshi Nishikawa, Katsunobu Nishihara, Chiyoe Yamanaka

    High-Power Laser Ablation 2004 

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    開催年月日: 2004年4月25日 - 2004年4月30日

    開催地:Taos, New Mexico, USA  

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  • n, l分離を含んだ新しい遮蔽水素モデル

    西川亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2004年3月30日

    開催地:九州大学箱崎キャンパス  

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  • EUV光源プラズマのスペクトルの構造の解析

    佐々木明、西原功修、西村博明、河村徹、砂原淳、古河裕之、西川亘、小池文博、藤間一美、香川貴司、加藤隆子、R. More

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2004年3月30日

    開催地:九州大学箱崎キャンパス  

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  • 相変化、詳細なレーザー吸収過程を考慮したEUVプラズマ輻射流体シミュレーション

    古河裕之、河村徹、砂原淳、島田義則、山浦道照、西川亘、蒲太幸平、西原功修、宮永憲明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年3月30日

    開催地:東京工科大学  

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  • 輻射流体シミュレーションによるレーザー生成プラズマからのEUV放射の解析

    砂原淳、西川亘、古河裕之、河村徹、蒲太幸平、西原功修、島田義則、藤岡慎介、西村博明、宮永憲明、山浦道照、内田成明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2004年3月30日

    開催地:東京工科大学  

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  • 自然科学の楽しさを伝えたい?岡山大学サイエンス・スクールの試み?

    長屋智之、奈良重俊、*西川亘、山下信彦、稲田佳彦、味野道信、木村吉伸

    電気学会教育フロンティア研究会 

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    開催年月日: 2004年3月4日

    開催地:岡山  

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  • Estimation of emission efficiency for laser-produced EUV-plasmas

    T. Kawamura, K. Fujima, F. Koike, H. Furukawa, A. Sunahara, T. Nishikawa, A. Sasaki, T. Kagawa, R. More, M. Murakami, V. Zhakhovskii, T. Fujimoto, H. Tanuma, K. Nishihara

    SPIE 29th Annual International Symposium on Microlithography 

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    開催年月日: 2004年2月26日

    開催地:anta Clara, CA, USA  

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  • Theoretical simulation of extreme UV radiation source for lithography

    K. Fujima, K. Nishihara, T. Kawamura, H. Furukawa, T. Kagawa, F. Koike, R. More, M. Murakami, T. Nishikawa, A. Sasaki, A. Sunahara, V. Zhakhovskii, T. Fujimoto, H. Tanuma

    SPIE 29th Annual International Symposium on Microlithography 

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    開催年月日: 2004年2月25日

    開催地:anta Clara, CA, USA  

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  • Atomic models and hydrodynamic simulation for laser-plasma EUV source

    Takeshi Nishikawa, Akira Sasaki, Hiroyuki Furukawa, Atsushi Sunahara, Katsunobu Nishihara

    EUVL Source Workshop 

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    開催年月日: 2004年2月22日

    開催地:Santa Clara, USA  

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  • 輻射流体コードによるEUV放射の数値シミュレーション

    砂原淳、古河裕之、河村徹、西川亘、村上匡且、西原功修、宮永憲明、井澤靖和

    プラズマ・核融合学会年会 

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    開催年月日: 2003年11月28日

    開催地:茨城県立県民文化センター  

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  • レーザー生成プラズマからの極短紫外線(EUV)放射特性

    西村博明他36名中25番目

    プラズマ・核融合学会年会 

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    開催年月日: 2003年11月28日

    開催地:茨城県立県民文化センター  

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  • EUV光源開発のためのレーザーアブレーション輻射流体シミュレーション

    古河裕之、河村徹、砂原淳、西川亘、藤間一美、西原功修、宮永憲明、井澤靖和

    プラズマ・核融合学会年会 

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    開催年月日: 2003年11月23日

    開催地:茨城県立県民文化センター  

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  • Simulation of the EUV spectrum of Xe and Sn plasmas

    N. Miyanaga他36名のうち19番目

    Progress in Understanding of Laser-Produced Plasmas for EUV Source 16th Annual Meeting of IEEE, Laser and Electro-Optics Society, (LEOS2003) 

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    開催年月日: 2003年10月27日 - 2003年10月30日

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  • Laser-Produced-Plasma for EUV Light Source for Lithography

    K. Nishihara他36名の2番目

    Ultrashort high-energy radiation and matter 

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    開催年月日: 2003年10月7日 - 2003年10月10日

    開催地:Varenna, Italy  

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  • Radiation Hydrodynamic Simulation of Laser-Produced Plasma for EUVL

    A. Sunahara, H. Furukawa, T. Kawamura, T. Nishikawa, M. Murakami, K. Nishihara

    2nd International Extreme UltraViolet Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • Japan MEXT Leading Project for Laser-Produced-Plasma EUV Light Source Development

    K. Nishihara他36名の10番目

    2nd International Extreme UltraViolet Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • Characterization of EUV Emission from Laser Produced Low-Density Tin-oxidized plasmas

    H. Nishimura他17名の17番目

    2nd International Extreme UltraViolet Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • Experimental Study on Basic Properties of Laser-Produced Plasma as an EUV Source on GEKKO XII

    M. Nakai他24名の24番目

    2nd International Extreme UltraViolet Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • Evaluation of Emission Efficiency at 13.5-nm EUV Source form One-Dimensional Spherical Plasma without Lateral Heat Transport an Density Gradient

    M. Yamaura他23名23番目

    2nd International Extreme Ultra-Violet Lithography Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • Dependence of EUV Emission Properties on Drive Laser Wavelength

    M. Yamaura他23名の23番目

    2nd International Extreme UltraViolet Symposium 

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    開催年月日: 2003年9月30日 - 2003年10月2日

    開催地:Antwerp, Belgium  

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  • EUV光源開発のためのレーザーアブレーション輻射流体シミュレーション

    古河裕之、河村徹、砂原淳、西川亘、藤間一美、佐々木明、村上匡且、西原功修、宮永憲明、井澤靖和

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2003年9月30日

    開催地:福岡大学  

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  • EUV光源プラズマ流体シミュレーションのための簡便な平均イオンモデル

    西川亘、古河裕之、砂原淳、西原功修

    応用物理学会 

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    開催年月日: 2003年9月30日

    開催地:福岡大学  

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  • Theoretical Modeling of Laser-Produced Plasma for Development of Extreme UV Radiation Source for Lithography

    K. Nishihara, *T. Nishikawa, A. Sasaki, T. Kawamura, A. Sunahara, H. Furukawa, M. Murakami, R. More, K. Fujima, F. Koike, T. Kagawa, V. Zhakhovskii, T. Kato, H. Tanuma, H. Nishimura, M. Nakai, 他20名

    International Conference of Fusion Science 2003 

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    開催年月日: 2003年9月7日 - 2003年9月12日

    開催地:Monterey  

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  • 岡山大学電気電子工学科における実験科目への取り組み?物理学実験?

    小笠原悟司、藤原耕二、鶴田健二、佐薙稔、山下善文、石山武、西竜志、*西川亘、東辻千枝子、宮城大輔、小松原均、中野正典、安原清隆

    電気学会教育フロンティア研究会資料FIE-03-13 

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    開催年月日: 2003年5月30日

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  • EUV光源開発のためのXeイオンのエネルギー準位の評価

    古河裕之、香川貴司、小池文博、佐々木明、藤間一美、西川亘、More Richard、西原功修

    第50回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日: 2003年3月29日

    開催地:横浜  

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  • XeプラズマのEUVスペクトルの理論解析

    佐々木明、西原功修、西村博明、古河裕之、西川亘、藤間一美、More Richard、小池文博、香川貴司

    第50回応用物理学関係連合講演会 

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    開催年月日: 2003年3月29日

    開催地:横浜  

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  • 水熱量計を用いた交流電力測定の学生実験

    西川亘、数乗有、八田和道、藤田英明

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2002年3月25日

    開催地:草津  

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  • イオンポテンシャルを考慮したプラズマ中自由電子の状態密度II

    西川亘、数乗有、八田和道、藤田英明

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2002年3月24日

    開催地:草津  

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  • イオンポテンシャルを考慮したプラズマ中自由電子の状態密度

    西川 亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2001年9月19日

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  • Simple atomic model based on the plasma microfield

    Takeshi NISHIKAWA

    Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications 

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    開催年月日: 2001年9月13日

    開催地:Kyoto  

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  • Novel Laboratory Fusion Sources

    T. Kenmotsu*, T. Nishikawa, R. More* *核融合科学研究所

    Second International Conference on Inertial Fusion Sciences and Applications 

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    開催年月日: 2001年9月10日

    開催地:Kyoto  

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  • 水熱量計を用いた交流電力測定の学生実験

    西川亘、数乗有、八田和道、藤田英明

    電気・情報関連学会中国支部第52回連合大会講演論文集 

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    開催年月日: 2001年4月

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  • 半古典近似を用いた原子モデルII

    西川 亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2001年3月29日

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  • 半古典近似を用いた原子モデ

    西川 亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2001年3月25日

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  • プラズマ効果の原子素過程への要素還元

    西川 亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 2001年3月24日

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  • シュタルク効果に基づく高励起状態数の計算

    西川亘

    日本物理学会 

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    開催年月日: 1999年9月25日

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共同研究・競争的資金等の研究

  • Study on theory and numerical calulation of Opacity

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    資金種別:競争的資金

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  • 半古典近似を用いた原子モデル

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    資金種別:競争的資金

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  • オパシティーの理論・数値計算に関する研究

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    資金種別:競争的資金

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  • Atomic Modeling based on semi-classical theory

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    資金種別:競争的資金

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担当授業科目

  • 表現技法1 (2021年度) 前期  - その他

  • 表現技法2 (2021年度) 後期  - その他

  • 電子情報システム工学特別研究 (2021年度) 通年  - その他

  • 電気通信系実験A (2021年度) 1・2学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

  • 電気通信系実験B (2021年度) 3・4学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

  • 表現技法1 (2020年度) 前期  - その他

  • 表現技法2 (2020年度) 後期  - その他

  • 電子情報システム工学特別研究 (2020年度) 通年  - その他

  • 電気通信系実験A (2020年度) 1・2学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

  • 電気通信系実験B (2020年度) 3・4学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

  • 電気通信系実験Ⅱ (2020年度) 3・4学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

  • 電気通信系実験I (2020年度) 1・2学期  - 水2,水3,水4,水5,水6

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